AO 贴图
使用
使用乘法器与漫反射贴图相乘，增强阴影效果
制作
- 创建一个image texture 节点
- new 一个纹理，命名为 *.png
- 选择render→cycles, 使用GPU计算
- 找到bake选项，bake type 选择 ambient occlusion, 点击其中的bake按钮开始制作AO贴图
- 切换至texture节点，保存纹理图片到本地
logo贴图
- 选中要添加logo的部件，并在编辑器中选中材质
- 打开Base Color 编辑器，选中 Image Texture
- 打开要添加的纹理图片
- 边缘选择Extend，以便观察logo效果
- 打开UV Editing
- 建议切换到材质视图，以便观察实时的纹理应用效果
- 切换到 face select 模式，选中几个面来测试一下模型与展开平面的对应关系(按住shift连续选择)
- 选中需要应用logo的区域
- 调整展开视图的大小、位置和缩放
- 返回layout视图查看叠加效果
由于一般3D查看的的纹理效果对于超出纹理范围的处理都是线性重复，所以会出现下图所示的效果。在自己的渲染器中，需要特殊处理
GL_TEXTURE_WRAP_S， GL_TEXTURE_WRAP_T 属性需要设置为 GL_CLAMP_TO_BORDER 需要对logo纹理没有覆盖到的区域，根据透明度进行特殊处理